⒈Ποσότητα προσθήκης οπτάνθρακα
Το κοκ είναι πιο αγώγιμο από το πυρίτιο. Εάν προστεθεί πάρα πολύ κοκ, θα επηρεάσει τη βαθιά εισαγωγή του ηλεκτροδίου. Επομένως, υπό την προϋπόθεση ότι το διοξείδιο του άνθρακα στο πυρίτιο είναι πλήρως μειωμένο, μην προσθέσετε πολύ κοκ για να διευκολύνετε την εισαγωγή του ηλεκτροδίου.
⒉Μέγεθος σωματιδίων οπτάνθρακα
Το μέγεθος των σωματιδίων του οπτάνθρακα είναι μικρό, η επιφάνεια αυξάνεται και η επιφάνεια επαφής αυξάνεται. Η αντίσταση του φορτίου είναι μεγάλη και το βάθος εισαγωγής του ηλεκτροδίου γίνεται βαθύ. Αντίθετα, το μέγεθος των σωματιδίων του κωκ είναι μεγάλο, η επιφάνεια μειώνεται και η αντίσταση του φορτίου είναι μικρή, το βάθος εισαγωγής του ηλεκτροδίου γίνεται ρηχό.
⒊Ιδιότητες οπτάνθρακα
Αυτό αναφέρεται κυρίως στην αντίσταση του ίδιου του οπτάνθρακα. Εάν η αντίσταση του οπτάνθρακα είναι μικρή, το ρεύμα που διέρχεται από το φορτίο είναι μεγάλο, προκαλώντας την άνοδο του ηλεκτροδίου και το βάθος εισαγωγής του ηλεκτροδίου είναι μικρό. Αντίθετα, η αντίσταση του οπτάνθρακα είναι υψηλή, όπως η χρήση οπτάνθρακα αερίου. Λόγω της υψηλής αντοχής του, το ηλεκτρόδιο μπορεί να εισαχθεί βαθιά.
⒋Δευτερεύουσα τάση
Όταν χρησιμοποιείται υψηλότερη δευτερεύουσα τάση για την τήξη, το τόξο είναι μεγαλύτερο και το ηλεκτρόδιο εισάγεται ρηχά στο φορτίο. Αντίθετα, με χαμηλότερη δευτερεύουσα τάση, το ηλεκτρόδιο εισάγεται βαθύτερα στο φορτίο.
εργοστάσιο κραμάτων σιδηροπυριτίου
⒌Συνθήκες λειτουργίας
Εάν η λειτουργία είναι ακατάλληλη, όπως ανομοιόμορφη ανάμειξη, μερική προσθήκη υλικών και αποτυχία έγκαιρης ανάδευσης του φούρνου. Η κατάσταση του κλιβάνου είναι κολλώδης, το επίπεδο υλικού είναι πολύ υψηλό ή υπάρχει έλλειψη υλικού στον κλίβανο κ.λπ., γεγονός που θα εμποδίσει το βάθος και τη σταθερότητα της εισαγωγής του ηλεκτροδίου στο υλικό του κλιβάνου.
⒍Χρόνος κτυπήματος σιδήρου
Υπό κανονικές συνθήκες του κλιβάνου, εάν το διάστημα κρούσεων παραταθεί ή ο λιωμένος σίδηρος δεν είναι καθαρός, αναπόφευκτα θα συσσωρευτεί περισσότερος λιωμένος σίδηρος στον κλίβανο, το ηλεκτρόδιο θα ανέβει και το ηλεκτρόδιο θα εισαχθεί ρηχά στο φορτίο.
Κατασκευή Ferro Silicon
⒎Η ποσότητα της σκωρίας που συσσωρεύεται στον κλίβανο
Εάν η εκκένωση της σκωρίας δεν είναι καλή, θα συσσωρευτεί πάρα πολύ σκωρία στον κλίβανο, ο πυθμένας του κλιβάνου θα ανυψωθεί και το βάθος εισαγωγής του ηλεκτροδίου θα γίνει ρηχό.
⒏Η διάμετρος του πολικού κεντρικού κύκλου μεταξύ των ηλεκτροδίων
Για έναν κλίβανο βυθισμένου τόξου με την ίδια χωρητικότητα, όταν η διάμετρος του κεντρικού κύκλου του πόλου είναι μεγαλύτερη, η απόσταση μεταξύ των ηλεκτροδίων είναι μεγαλύτερη, η αντίσταση του φορτίου αυξάνεται και το ηλεκτρόδιο εισάγεται βαθύτερα στο φορτίο. Αντίθετα, όταν η διάμετρος του κεντρικού κύκλου του πόλου είναι μικρότερη, το βάθος εισαγωγής του ηλεκτροδίου γίνεται μικρότερο.
