Προμηθευτής στόχου βολφραμίου Sputtering
Οι συνήθεις τύποι μεταλλικών στόχων είναι οι εξής:
Συμβατικοί μεταλλικοί στόχοι: μαγνήσιο Mg, μαγγάνιο Mn, σίδηρος Fe, κοβάλτιο Co, νικέλιο Ni, χαλκός Cu, ψευδάργυρος Zn, μόλυβδος Pd, κασσίτερος Sn, αλουμίνιο Al
Μικροί μεταλλικοί στόχοι: Indium, Germanium Ge, Gallium Ga, Antimony Sb, Bismuth Bi, Cadmium Cd
Πυρίμαχα μεταλλικά υλικά στόχος Titanium Ti, Zirconium Zr, Hafnium Hf, Vanadium V, Niobium Nb, Tantalum Ta, Chromium Cr, Molybdenum Mo, Tungsten W, Rhenium Re
Tungsten Sputtering Target κατασκευή
Στόχοι από πολύτιμα μέταλλα: χρυσός Au, ασήμι Ag, παλλάδιο Pd, πλατίνα Pt, ιρίδιο Ir, ρουθήνιο Ru, ρόδιο Rh, όσμιο Os
Ημιμεταλλικοί στόχοι: άνθρακας C, βόριο Β, τελλούριο Te, σελήνιο Se
Στόχοι μετάλλων σπανίων γαιών γαδολίνιο Gd, σαμάριο Sm, δυσπρόσιο Dy, δημήτριο Ce, ύττριο Y, λανθάνιο La, υττέρβιο Yb, έρβιο Er, τέρβιο Tb, holmium Ho, θούλιο Tm, νεοδύμιο Nd, πρασεοδύμιο Pr, λουτέτιο E Lu, ευρώ Sc
Κεραμικό οξείδιο ψευδαργύρου αλουμινίου AZO, οξείδιο κασσίτερου ινδίου ITO, οξείδιο του ψευδαργύρου ZnO, νιτρίδιο αλουμινίου AlN, νιτρίδιο τιτανίου TiN, νιτρίδιο του βορίου BN, τιτανικό βάριο BaTiO3, τιτανικό βισμούθιο BiTiO3, καρβίδιο του πυριτίου TiCO, καρβιτάνιο, καρβίδιο του πυριτίου δώσε WC, νιοβικό λίθιο LiNbO3
Γεγονός στόχου βολφραμίου Sputtering
Οι στόχοι του κράματος περιλαμβάνουν κράμα χρυσού-κασσίτερο AuSn, κράμα χρυσού-γερμανίου-νικελίου AuGeNi, κράμα ψευδάργυρου-αλουμινίου ZnAl, κράμα αλουμινίου-χαλκού AlCu, κράμα κοβαλτίου-σιδήρου-βορίου CoFeB, κράμα σιδήρου-μαγγανίου FeMn, ιρίδιο-μαγγανίου, κράμα Iconiumr -κράμα τιτανίου ZrTi, κράμα νικελίου-χρωμίου NiCr, κράμα χαλκού ινδίου γαλλίου CuInGa, χαλκός ψευδάργυρος κράμα θείου κασσίτερου CZTS
